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三氧化二硼硼硅片 型號:ZJ333-PWB2

三氧化二硼硼硅片 型號:ZJ333-PWB2

簡要描述:
三氧化二硼硼硅片 型號:ZJ333-PWB2

二 規(guī)格與參數
(1)規(guī)格
PWB1淡硼 PWB2濃硼
特殊規(guī)格 Φ40*1.5mm 特殊規(guī)格 Φ40*2.5mm
特殊規(guī)格 Φ45*1.5mm 特殊規(guī)格 Φ45*2.5mm
2英寸 Φ50*1.5mm 2英寸 Φ50*2.5mm

產品時間:2024-08-27

訪問量:1387

廠商性質:生產廠家

生產地址:

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三氧化二硼硼硅片 型號:ZJ333-PWB2

產品名稱:三氧化二硼硼硅片
產品型號:PWB2
產品規(guī)格:100*4mm
微晶玻璃片狀擴散源
使用說明書
一 前言
PWB-硼微晶玻璃片狀擴散源是一種的擴散源,它適用于半導體元器件和集成電路的硼擴散工藝,具有穩(wěn)定性、均勻性,目前已被半導體行業(yè)應用。

三氧化二硼硼硅片 型號:ZJ333-PWB2

二 規(guī)格與參數
(1)規(guī)格
PWB1淡硼 PWB2濃硼
特殊規(guī)格 Φ40*1.5mm 特殊規(guī)格 Φ40*2.5mm
特殊規(guī)格 Φ45*1.5mm 特殊規(guī)格 Φ45*2.5mm
2英寸 Φ50*1.5mm 2英寸 Φ50*2.5mm
3英寸 Φ76.2*3mm 3英寸 Φ76.2*3mm
4英寸 Φ100*4mm 4英寸 Φ100*4mm
(2)參數
PWB1淡硼 PWB2濃硼
硼含量 B2O3≥43% B2O3≥45%
膨脹系數 49*10-7+3*10-7/℃(20℃~400℃)
擴散溫度 900℃~1050℃
方塊電阻 RS≥30Ω/□ RS≥15Ω/□
(根據其他條件不同,RS值可以有所差異)
三 使用說明
(一)源片清洗方法
主要是去-除源片表面所沾染的雜質。有以下兩種方法:
(1) A 用丙酮棉花擦洗表面后,在乙醇中漂洗2~3秒;
B 用50℃~60℃的去離子水沖洗1~2分鐘;
C 冷去離子水沖洗10~15分鐘;
D 用紅外燈烘4~5小時。
(2) A 用丙酮與乙醇棉花先后擦洗源片正反兩面及四周;
B 用50℃~60℃的去離子水沖洗1~2分鐘;
C 冷去離子水沖洗10~15分鐘;
D 用紅外燈烘4~5小時。
源片的清洗和烘干應連續(xù)進行,在紅外燈烘干的過程中,如源片出現發(fā)黑現象,說明有-機溶劑未沖洗干凈,烤源時通少量氧氣,即可除-去。
經清洗和烘干以后的源片,即可放入石英管中隨爐升溫烤源。

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